超強激光科學卓越創新簡報
(第三百八十三期)
2023年4月19日
上海光機所在新型介質膜配向液晶相位延遲器件研究方面取得進展
近期,中國科學院上海光學精密機械研究所薄膜光學實驗室與上海理工大學合作在新型介質膜配向液晶相位延遲器件的研究取得進展。采用傾斜沉積介質膜對液晶進行配向,與基于傳統聚酰亞胺薄膜配向的可調相位延遲器件進行了抗激光損傷等性能的比較研究,為介質膜配向的液晶器件在高功率激光系統中的實際應用提供了指導,相關研究成果以“Comparative study of liquid crystal variable retarder with rubbed polyimide and SiO2 thin films by glancing angle deposition”為題發表于Modern Physics Letters B。
基于液晶電光響應特性所研制的光子器件可精密控制激光束的偏振態、振幅和相位,使激光光束達到所需要的輸出特性,并且在無須機械轉動、響應速度快、相位延遲量隨驅動電壓連續可調等方面具有突出優勢。隨著高功率激光技術的發展,對液晶相位調控器件的抗激光損傷能力要求也越來越高。
在該研究中,研究人員基于傾斜沉積SiO2薄膜制備了液晶可調相位延遲器件,將其與聚酰亞胺摩擦配向的液晶可調相位延遲器件進行了抗激光損傷等性能的比較研究。SiO2薄膜配向的液晶延遲器的激光誘導損壞閾值為1.84J/cm2(@1064nm,12ns),其抗激光損傷性能優于基于聚酰亞胺配向膜制備的液晶可調相位延遲器件。
相關研究得到了國家自然科學基金的支持。
圖1 氧化硅薄膜和聚酰亞胺薄膜的表面形貌(a)氧化硅薄膜(b)聚酰亞胺薄膜
圖2 液晶可調相位延遲器在LED背光板和正交偏振片下的照片(a)氧化硅薄膜配向(b)聚酰亞胺薄膜配向